泰研半导体完成数千万元A轮融资,专注先进封装半导体设备国产化|早起看早期


1、溅镀设备:在生产大尺寸产品上具备较大优势,可以通过镀膜工艺实现散热、RDL、EMI等功能。泰研拥有自主研发的腔体独立制冷系统、高散热系统、等离子体预处理系统等方面的核心设计能力和批量生产工艺,凭借这些核心能力,泰研的溅镀设备在实施EMI功能时能达到业界领先的高超水平,具体来说其侧壁覆盖率能够达到70%以上,而业内指标普遍在40%左右。
2、激光设备:可为客户提供芯片表面激光打码/读码、芯片切割开槽、3D封装激光钻孔等服务,泰研的激光设备集成了标记与AOI检测,可兼容SECS GEM(SEMI连接性标准E30,可用于设备的通讯和控制)和 RMS(半导体封测设备RMS系统),能提供自有IP的标记、检测、控制一体化软件,且通过创新的光路设计保证高精度和高稳定性。
3、等离子设备:具备基板和晶圆电浆清洗、光刻胶孔渣清洗、RDL线路蚀刻、RMC干蚀刻减薄、WPC等离子晶圆切割等功能,该设备的减薄工艺可以做到翘曲度非常小,能增强封装安全可靠性。

Sputter溅镀设备




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