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【资讯】Intel最近动作频频：只为重获制程技术的领先地位

百家作者：电脑报 2022-01-22 22:52:22

帕特·基辛格重回Intel担任CEO之后，他推出了IDM 2.0战略，意图重振Intel在半导体制造上的领先地位。

目前，各大晶圆制造厂商也正在大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满足高性能计算等先进芯片需求。而3/2nm工艺的实现则需要依赖于ASML新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列。在2021年7月底的“Intel加速创新：制程工艺和封装技术线上发布会”上，Intel已宣布将在2024年量产20A工艺（相当于台积电2nm工艺），并透露其将率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机。ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机的首份订单正是来自于Intel。对于Intel来说，抢先获得ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机，也正是Intel笃定其制程工艺能够超越台积电、三星重回领先地位的关键。

除了光刻机之外，Intel去年投资200亿美元在美国亚利桑那州建设2座新的晶圆厂，分别会命名为Fab 52、Fab 62，并首次透露这些工厂将会在2024年量产20A工艺，这是Intel首个埃米级工艺。本周Intel还将宣布新的工厂计划，这次将在俄亥俄州投资200亿美元建厂。虽然Intel官方没有明确说明细节，不过当地媒体已经爆料称，Intel将在周五的活动上宣布在俄亥俄州哥伦布地区投资200亿美元建设半导体工厂的事宜。俄亥俄州的晶圆厂具体细节还没有公布，但考虑到至少3年的建设周期，量产要到2025年了，这里的工厂生产的应该是再下一代的18A工艺，比台积电的2nm工艺还要先进，届时Intel会真正重回全球半导体工艺的领导地位。

美国是半导体技术的发源地，基辛格在Intel工作的30年内见证了美国及Intel最辉煌的时刻，然而现在美国公司在全球半导体生产中的份额已经下滑到了12%，先进工艺生产转移到了亚洲地区，所以基辛格上任之后一直呼吁加大投资，让美国重新夺回至少1/3的半导体制造份额。