布局光刻机核心器件，华为哈勃投资入股科益虹源

6月4日消息，根据企查查的资料显示，国内高端准分子激光技术厂商北京科益虹源光电技术有限公司（以下简称“科益虹源”）发生工商信息变更，新增华为旗下的哈勃科技投资有限公司（以下简称“哈勃投资”）、徐州光远股权投资合伙企业（有限合伙）及自然人江锐成为公司股东，同时注册资金由12000万元提升至20160万元，增幅达68%。其中，哈勃投资持股4.7619%。

资料显示，科益虹源成立于2016年7月，由中国科学院微电子所、亦庄国投、国科科仪等共同出资设立。随着2018年3月科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破了国外厂商的长期垄断。科益虹源也成为了中国唯一、世界第三家具备193nm ArF准分子激光技术研究和产品化的公司。

科益虹源还承担了“02重大专项浸没光刻光源研发”、“02重大专项核心零部件国产化能力建设”、“02重大专项集成电路晶圆缺陷检测光源”等国家专项。

此外，科益虹源也是国产光刻机厂商上海微电子的光源系统供应商。此前消息也显示，科益虹源还将与上海微电子整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作。

而此次华为旗下的哈勃投资入股科益虹源，似乎也正是为了加码布局光刻机领域的研发。

自去年华为被美国实施第二轮制裁，使得华为自研芯片无法制造之后，业内就一直有传闻称华为在自建半导体产线，并已开始研发半导体产线所必须的关键设备——光刻机。此前曝光的招聘信息也显示，华为正在招募光刻机研发人才。去年，芯智讯还曾独家爆料，华为到多家半导体设备厂挖人的消息。

但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。

即便是国产光刻机龙头上海微电子，其自2002年成立至今也有了近20年的光刻机研发历史，但是其已量产的90nm光刻机也仅仅是ASML十多年前的水平。而这样一款并不先进的90nm光刻机，其内部结构也是非常之复杂，很多关键器件也都是由第三方供应的。

上海微电子总经理贺荣明曾表示：“SMEE最好的光刻机（90nm分辨率的光刻机），包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛，任何一个人发挥失常就要输球。”

而ASML的EUV光刻机则拥有超过10万个零件，更是极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制，90%零件都采用的是世界上最先进技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。

显然，华为如果真要自研光刻机，前提必须是光刻机的关键器件都能够实现国产化突破。

而对于光刻机来说，光源无疑是一大核心器件。华为通过旗下投资公司入股国产光刻机光源供应商科益虹源，似乎也正是为了助力光刻机相关核心器件的突破，以便后续为其自研光刻机铺路。

编辑：芯智讯-浪客剑

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