继突破176层3D NAND之后,美光DRAM技术动向出乎意料!

百家 作者:闪存市场 2020-12-23 15:46:39


2020年存储产业面临着较大的挑战,同时原厂之间的竞争也急剧升温,三星、铠侠/西部数据不断投资扩产,之后SK海力士收购英特尔NAND业务,再加上三星率先在1Znm DRAM导入EUV设备,无论是在NAND Flash还是DRAM上,都给美光带来了不小的压力。


美光作为全球主要的存储芯片供应商,上个月率先公开宣布量产176层3D NAND,震撼业界,在DRAM技术上,美光也有了新的动向。


SK海力士步步紧逼,美光加快176层3D NAND进展,缓解压力


2020年原厂动作频繁,加剧NAND Flash市场动荡,首先是三星、铠侠/西部数据不断加码投资建厂,展开新一轮的产能竞赛,三星西安二期、平泽P2,铠侠K2、Fab7新厂,以及长江存储国家存储器基地项目二期也开工建设,将给未来NAND Flash市场供应端带来较大的变化。


其次是来自SK海力士的压力。据中国闪存市场ChinaFlashMarket数据,2020年Q3 NAND Flash市场排名,三星依然排名第一,铠侠和西部数据紧随其后,SK海力士市占11.3%排第四,略高于美光市占的10.3%,英特尔市占7.9%,排名第六。



如今,英特尔将NAND SSD业务、NAND组件和晶圆业务以及中国大连NAND工厂卖给SK海力士,并将在2021年底完成移交。SK海力士若加上收购英特尔NAND业务带来的贡献,将引发2021年NAND Flash全球格局动荡,SK海力士与美光之间的市占差距恐进一步扩大。


此外,在3D NAND技术上,SK海力士也是步步紧逼,美光和SK海力士先后公开宣布突破176层3D NAND技术。不过,美光正在加快批量生产176层3D NAND的步伐,同时已送样给部分控制芯片厂商,预计2021下半年将有望实现176层3D NAND的商用。


美光1αnm DRAM将在2021年量产,将与三星、SK海力士展开竞争 


美光作为主要的DRAM芯片供应商,曾在2012年收购尔必达之后,DRAM市占率曾一度跃居全球排名第二,然而市场竞争不断加剧,美光DRAM市占不断流失。据中国闪存市场ChinaFlashMarket数据,2020年Q3 DRAM市场排名,三星以42.1%市占排名第一,SK海力士市占28.8%排第二,美光市占24.1%,显然与SK海力士市占差距明显。



在DRAM技术上,三星已在2020年量产的16Gb LPDDR5中首次导入EUV工艺,基于1Znm制程技术,更先进的技术相较于12Gb容量提升了33%,封装的厚度也薄了30%。同时,三星也规划将在2021年大量生产基于第四代10nm级(1α)EUV工艺的16Gb DDR5/LPDDR5。



SK海力士计划利用EUV技术优势,也正在推进第四代10nm级(1a)DRAM量产,预计2021年开始批量生产1a nm DRAM。同时,SK海力士新建的利川M16厂预计将在2021年上半投片,下半年实现产品的出货。面对三星和SK海力士技术的推进,美光1αnm DRAM也是计划将在2021上半年量产8Gb DDR4。


三星、SK海力士将陆续导入EUV设备,美光未来3代都不考虑,到底为何?


EUV设备是未来DRAM技术发展的关键,三星、SK海力士已将EUV导入节点提上了日程,但是美光1αnm工艺节点仍未考虑导入EUV设备。根据美光的DRAM技术规划,不仅DRAM在1αnm技术节点不考虑EUV设备,之后的1βnm、1γnm也坚持不考虑,这让业内人士出乎意外。



美光可能是考虑到整体成本负担,因为EUV设备价格不菲,且ASML是全球唯一能够稳定提供EUV设备的厂商,在三星、SK海力士DRAM对EUV需求增加的推动下,ASML的EUV设备可能会供不应求,2021年EUV设备交付量在45台到50台之间。


其次,从产业发展而言,每年DRAM市场的Bit供应增加在15%-20%,保持着健康的供需关系。美光新一代的1αnm工艺节点,在成熟良率下,将比1Znm节点每片Wafer晶圆增加40%的Bit量,已可满足当下DRAM市场需求,同时也不必承担因为EUV设备和产线改造造成的成本压力,实现更优的经济效益。



综合考虑,美光预计可能要到1δnm节点才会使用EUV设备,同时美光也在为导入EUV设备与ASML保持沟通,以及准备相关的研发和管理人才,会一直评估导入EUV设备的时间节点。




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