【推仔说新闻】ASML计划研发新一代EUV光刻机 性能提升70%

光刻机对于半导体生产来说可谓是至关重要的设备，在以前光刻机甚至是佳能和尼康的重要产品之一，对你没看错，就是你知道的那个佳能和尼康。只不过随着科技的进步、技术的革新，就目前而言，整个光刻机领域的高端产品全部被ASML垄断。

而大家常说的EUV也就极紫外光刻机只有ASML独一份。这就更加彰显出ASML在整个光刻机业内的地位了。现在每台EUV光刻售价超过一亿美元，而且一直处于供不应求的态势。

既然已经是业内的头把交椅了，ASML并没有停下自己的脚步，他们其实很早之前就开始了布局，早在16年ASML就花了20亿美元收购了蔡司公司25%的股份，并追加投资双方合作开发新的透镜。

接下来在去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机，目标是将NA从0.33提升到0.5以上。

这里跟大家说一下，关于光刻机的分辨率

K1在这其中可以看做常数项，λ为光波长，也就是目前经常进入大家眼帘的极紫外光所影响的就是这项。而NA就是数值孔径。就目前而言，ASML就是想在这个NA上面做文章。

日前韩媒报道称，ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机，与现有的光刻机相比，二代EUV光刻机最大的变化就是High NA（高数值孔径）透镜，通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%。机器将于2025年量产。

 

在推仔看来，ASML的下一代产品更新也算是可以预见的，毕竟大家都清楚，按照三星和台积电已经公布的路线图来看，等时间真到了2025年，这两家的工艺怕是早就推进到3nm左右，如果光刻这边扯了后腿，相比三星肯定会有借口说自己的“1nm”计划失败。

 

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