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重大突破！中国光刻机问世，价格只是国外产品2%！

百家作者：占豪 2018-12-03 02:17:40

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过去，一说芯片落后，我们就会说我们有一样东西没有，没办法突破，所以会一直受制于人。在今年中美贸易战打响后，很多人就是拿这个东西来反驳占豪，说如果美国在芯片上限制了中国，中国就如何如之何。当时占豪的回答是，如果中美真的贸易战打到那个程度，中美撕破脸了，那么直接拿下台湾即可，台湾有全球最大的芯片制造商，苹果的芯片都是在那生产的。

不过，占豪认为中美贸易战打不到那个程度，而且中国的光刻机应该说不遥远了。结果，没想到，这才几个月，中国的光刻机就面世了。媒体报道，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目今天在成都通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。光刻机作为半导体芯片的“母机”，在半导体制造行业的作用不亚于高精度机床在机械加工领域。它对于我国半导体产业而言，是一个重大的突破。

图注：超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品

为什么很多国家不愿意卖给我们相关装备，原因就是一旦卖给中国，中国就能造出来，所以发达国家往往都喜欢对中国技术保密。但是，保密也没用，中国自己努力也会搞出来，而且一旦搞出来就把相关产品搞成白菜价。这一次也不例外。光刻机，ASML的193nm光刻机售价在7000万美元以上，EUV光刻机售价在1亿欧元以上，中科院的这套光刻机才多少钱呢？一两千万人民币，简直白菜价！当然，由于基数体系不同，国产光刻机现在还取代不了ASML的光刻机，但我们有了这个装备之后，对方就要承受压力了，而且如果再不卖产品给我们，我们搞出来得更快，那么他们以后想卖我们还不买了。而且以后可能会面临我们的强大竞争压力。

那么，我们的光刻机是什么时候开始研发的呢？来自中科院官方的消息报道，中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说，2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工。

看看，我们已经搞了七年了！这7年让我们开始迫近对手，未来随着时间推移我们的进步会更快！所以说，想遏制中国，怎么可能？遏制来遏制去，我们啥都有了！

所以，我们根本不怕他们，不怕美国打贸易战，我们有足够的底气！如果一定要逼中国，那只能获得更大的反弹力。对其他国家来说，中国既然是遏制不住的，那么最好的方式就是合作。譬如，那些造光刻机的，赶紧与中国进行技术合作，共同成立公司开发中国市场就是最明智选择。譬如，英国ARM公司是全球领先的半导体知识产权 (IP) 提供商为了中国市场就和中国成立了合资公司。

这个世界是合作的，合作才能共赢！

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