ASML：最先进的光刻机很快将进入中国

中兴事件以来，芯片一直作为国人心中的痛。众所周知，作为半导体芯片生产过程中最重要的一环，光刻机尤其是高端光刻机设备也备受关注。然而国内半导体技术的发展却受到上述关键设备等的掣肘。

目前，光刻机大厂荷兰设备商阿斯麦 (ASML) 已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场。更关键的是，ASML已经成为全球唯一一家能向客户供应最先进EUV光刻机的设备商。而EUV光刻机售价都超过1亿美元，落后EUV一代的ArF光刻机平均售价也在4000万至5000万欧元左右，可见光刻机的技术门槛极高。

尽管全球第二大晶圆代工厂商Globalfoundries（格罗方德，格芯）、第三大晶圆代工厂商台UMC（联电）均已放弃7nm制程以及更先进工艺的研发，但ASML仍然对EUV光刻机的前景表示看好，同时也对未来中国市场客户7nm光刻订单信心满满。

近日，ASML中国区总裁沈波一上任，就参加中国集成电路制造年会，并接受了媒体专访。

此前有消息指出，中芯国际今年已向ASML订购了一台EUV光刻机，预计明年交付，用于7nm工艺技术研发。

而在传统的沉浸式光刻机方面，沈波表示：“ASML的光刻机一直都有在国内销售，2018年下半年ASML已开始出货最先进的NXT:2000i，这台ASML最先进的设备也将很快在中国市场看到。”

另外，就DUV光刻机而言，早先有媒体报道，长江存储、上海华虹半导体分别向ASML订购了193纳米浸没式光刻机和193纳米双极沉浸式光刻机NXT:1980Di，分别用于存储芯片制造、晶圆代工等制造。

中国大陆市场正对ASML越来越重要。相较于ASML前任的韩裔总座，此次换上了中国背景的沈波，似乎也显示出了ASML深耕本地市场的决心。

根据ASML 2018年一、二季财报显示，一季度中国大陆市场光刻机销售占比20%，二季度中占比19%，与美国市场基本持平，并且超过了中国台湾地区。预计2018年EUV光刻机的产量20台，2019年EUV光刻机的产能可提升到30台，到2020年EUV光刻机的产能可进一步上升到40台。

中国半导体产业要发展，除了技术设备，人才也很重要。我国电子信息产业缺乏相关领域的人才，随着集成电路产业的快速发展，人才短板已成为不争的事实。

对此，沈波说道：“ASML致力于为中国光刻行业培养更多的人才，为未来将进入集成电路行业的大学生输送知识。”沈波表示，ASML注重国内整体半导体人才的培养，以及科普教育的推广。

今年3月份，ASML与上海集成电路研发中心合作，在上海成立了第一个培训中心，协助行业培训高端工程技术人才。另外，ASML还在深圳和北京设有上百人的研发中心，负责计算光刻和量测设备关键模组的研发。

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